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當(dāng)前位置：德國韋氏納米系統(tǒng)有限公司>>產(chǎn)品展示>>美國杜邦Dupont
光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Post-CMP Cleans是一款由杜邦研發(fā)與生產(chǎn)的清洗劑，PCMP清洗劑適用于前端工藝（FEOL）中的氧化鈰、多晶硅、二氧化硅材料，中...
光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Post-Etch Cleans是一款由杜邦研發(fā)與生產(chǎn)的用于鋁（Al）和銅（Cu）互連結(jié)構(gòu)的蝕刻后殘留物去除劑（PERR）
光刻膠蝕刻殘留物清洗劑LED, TSV,WLP Cleans是一款由杜邦研發(fā)與生產(chǎn)的LED、TSV、WLP 清洗試劑
光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Post-Patterning Cleans是一款由杜邦研發(fā)與生產(chǎn)的光刻膠去除劑與剝離劑
光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans 是一款杜邦研發(fā)并生產(chǎn)的光刻膠去除劑
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